Aello 1551 - Durchflusssensor

Aello 1551 

 

Aello 1551 - Beschreibung

 

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Die zunehmende Verwendung von Nanopartikeln erzeugt einen zunehmenden Bedarf an genauer Produkt-Charakterisierung. Insbesondere die in großen Volumen eingesetzten Schleif-, Polier- und Schmiersuspensionen bedürfen zur Qualitätskontrolle einer genauen Bestimmung der Partikelkonzentration.

Basierend auf einer neuartigen lichtoptischen Methode hat Aello ein System entwickelt, das die Unzulänglichkeiten anderer Methoden ausschließt. Das Messsystem ergänzt die Einstecksensoren 1500 und 1520 als geschlossenes Durchflussmessgerät. Dies ist insbesondere für Anwendungen im Reinstmedien (z.B. CMP-Slurries) von Bedeutung. Hochauflösend wird der Feststoffgehalt auch in konzentrierten Partikelsystemen ermittelt.

Hauptanwendungsbereiche sind neben der CMP-Slurry-Versorgung die Abwasserbehandlung nach Polierprozessen. Die Geräte kennzeichnen sich durch niedrige Betriebskosten und einen günstigen Anschaffungspreis aus. Auf die Benutzerfreundlichkeit bei der Bedienung wurde besonderer Wert gelegt. Über Standardschnittstellen können die Messwerte auf Prozessleitsysteme gelegt werden. Ein frei programmierbarer Schaltausgang erlaubt die direkte Prozessregelung vom Sensor aus.

Aello 1551 - Messbereich

 

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  • Partikelgröße: ~ 50 nm .. 100 µm*
  • Konzentration: ~ 0.1 .. 30 M.-%*

(* der Messbereich ist stark abhängig von den optischen Partikeleigenschaften und der jeweiligen Sensorabstimmung!)

Aello 1551 - Besonderheiten

 

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Analoge Ausgänge:
Signalausgang:
Programmierung/Messwertabfrage:
Netzanschluss:
Optional:
Druck:
Betriebstemperatur:
Gehäusewerkstoff:
Dichtungswerkstoff:
Fensterqualität:
Durchmesser:
Höhe:
Anschluss:

0 -10 V, 4 - 20 mA
5 V, 100 KOhm
digital über RS 232
24 V DC (18-36 V)
115/230 V 50/60 Hz
< 5 bar
-10 + 60 °C
PP grau
NBR
Fused Silica
129 mm
152 mm
Flare-Ware 3/4“ (optional NPT 3/4", 1")

 

Andere Materialien sowie Ausführung für höhere Drücke und Temperaturen auf Anfrage.

Aello 1551 - Einsatzbeispiele

 

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  • Konzentrationsermittlung von CMP-Slurries (z.B. Ceria, Slica, Tungsten) meist eingesetzt in Misch- und Ansatzstationen
  • allgemein Polier- und Schleifprozessen mit submikronen Schleifpasten
  • Schmiermitteldosierung (z.B. PTFE-Suspensionen)
  • Abwasserbehandlung nach Polier- und Schleifprozessen

Aello 1551 - Downloads

 

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