| Aello 1551 - Durchflusssensor |
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Aello 1551 - Beschreibung |
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Die zunehmende Verwendung von Nanopartikeln erzeugt einen
zunehmenden Bedarf an genauer Produkt-Charakterisierung. Insbesondere
die in großen Volumen eingesetzten Schleif-, Polier- und Schmiersuspensionen
bedürfen zur Qualitätskontrolle einer genauen Bestimmung der
Partikelkonzentration.
Basierend auf einer neuartigen lichtoptischen Methode
hat Aello ein System entwickelt, das die Unzulänglichkeiten anderer
Methoden ausschließt. Das Messsystem ergänzt die Einstecksensoren
1500 und 1520 als geschlossenes Durchflussmessgerät. Dies ist insbesondere
für Anwendungen im Reinstmedien (z.B. CMP-Slurries) von Bedeutung.
Hochauflösend wird der Feststoffgehalt auch in konzentrierten Partikelsystemen
ermittelt.
Hauptanwendungsbereiche sind neben der CMP-Slurry-Versorgung
die Abwasserbehandlung nach Polierprozessen. Die Geräte kennzeichnen
sich durch niedrige Betriebskosten und einen günstigen Anschaffungspreis
aus. Auf die Benutzerfreundlichkeit bei der Bedienung wurde besonderer
Wert gelegt. Über Standardschnittstellen können die Messwerte
auf Prozessleitsysteme gelegt werden. Ein frei programmierbarer Schaltausgang
erlaubt die direkte Prozessregelung vom Sensor aus.
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Aello 1551 - Messbereich |
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- Partikelgröße: ~ 50 nm .. 100 µm*
- Konzentration: ~ 0.1 .. 30 M.-%*
(* der Messbereich ist stark abhängig von den optischen Partikeleigenschaften
und der jeweiligen Sensorabstimmung!)
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Aello 1551 - Besonderheiten |
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Analoge Ausgänge:
Signalausgang:
Programmierung/Messwertabfrage:
Netzanschluss:
Optional:
Druck:
Betriebstemperatur:
Gehäusewerkstoff:
Dichtungswerkstoff:
Fensterqualität:
Durchmesser:
Höhe:
Anschluss:
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0 -10 V, 4 - 20 mA
5 V, 100 KOhm
digital über RS 232
24 V DC (18-36 V)
115/230 V 50/60 Hz
< 5 bar
-10 + 60 °C
PP grau
NBR
Fused Silica
129 mm
152 mm
Flare-Ware 3/4“ (optional NPT 3/4", 1")
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Andere Materialien sowie Ausführung für höhere Drücke
und Temperaturen auf Anfrage. |
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Aello 1551 - Einsatzbeispiele |
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- Konzentrationsermittlung von CMP-Slurries (z.B.
Ceria, Slica, Tungsten) meist eingesetzt in Misch- und Ansatzstationen
- allgemein Polier- und Schleifprozessen mit submikronen Schleifpasten
- Schmiermitteldosierung (z.B. PTFE-Suspensionen)
- Abwasserbehandlung nach Polier- und Schleifprozessen
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Aello 1551 - Downloads |
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